表面和薄膜过程导论（第4版）

　　Preface
　　Chapter 1 Introduction to surface processes
　　1.1 Elementary thermodynamic ideas of surfaces
　　1.2 Suface energies and the Wulff throrem
　　1.3 Thermodynamics versus kinetics
　　1.4 Introduction to surface and adsorbate reconstructions
　　1.5 Introduction to surface electronics
　　Further reading for chapter1
　　Problems for chapter 1
　　Chapter 2 Surfaces in vacuum ultra-high vacuum techniques and processes
　　2.1 Kinetic thery concepts
　　2.2 Vacum concepts
　　2.3 UHV hardware:pumps,tubes,materials and pressure measureent
　　2.4 Surface rpeparation and cleaning procedures in situ experiments
　　2.5 Thin film deposition procedures:sources of information
　　Further reading for chapter2
　　Problems for chapter2
　　Chapter 3 Electron-based techniques for examinnig surface and thin film processes
　　3.1 Classification of suface and microsopy techniques
　　3.2 Diffraction and quasi-elastie scattering techniques
　　3.3 Inlastic scattering techniques;chemical and electronic state information
　　3.4 Quantification of Auger spectra
　　3.5 Microsopy-spectroscopy SEM SAM SPM etc.
　　Further reading for chapter3
　　Problems talks and projects for chapter 3
　　Chapter 4 Surface processes in adsorption
　　Chapter 5 Surface processes in epitaxial growth
　　Chapter 6 Electronic structure and processes at metalic surfaces
　　Chapter 7 Semiconductor surfaces and interfaces
　　Chapter 8 Surface procces in thin film devices
　　Chapter 9 Postscript-where do we go from here?
　　Rerferences
　　Index

　　    表面和薄膜科学是微电子、光电子和磁工业的物理基础，是现代社会技术进步的科学保证。在微观以至原子水平上研究和操纵表面让我们能够理解许多具有重要技术意义之器件的制作与运行。《表面和薄膜过程导论（第4版）》关注发生在表面和薄膜中的物理过程，详细介绍了与表面和薄膜相关的物理过程，包括热力学与运动学的理论基础，洁净表面的制备和表面的表征与分析技术，表面吸附与脱附过程，金属和半导体表面性质，外延生长和薄膜器件的表面过程等等内容。