第1章 TFT－LCD技术概要
1.1 TFT－LCD技术发展历史
1.2 液晶显示器的分类
1.3 矩阵式液晶显示器的工作原理
1.4 TFT－LCD的基本结构
第2章 液晶的基本物理特性
2.1 液晶的相结构与分类
2.1.1 向列相（Nematic）液晶
2.1.2 胆甾相（Cholesteric）液晶
2.1.3 近晶相液晶
2.1.4 盘状（Discotic）液晶
2.2 液晶的连续弹性体理论
2.2.1 液晶的弹性能密度
2.2.2 液晶在电场中的自由能密度
2.2.3 平衡态下液晶指向矢分布计算
2.2.4 动态平衡方程
2.3 弗里德里克斯转变（FrederickszTransition）
2.3.1 展曲形变
2.3.2 弯曲形变
2.3.3 扭曲形变
2.3.4 动态弗里德里克斯效应
2.4 液晶的表面配向
2.4.1 表面配向理论
2.4.2 配向方法
2.4.3 表面锚定能（SurfaceAnchoringEnergy）
2.5 液晶指向矢分布的数值计算方法
2.5.1 动态平衡方程
2.5.2 数值计算方法
2.6 光在液晶显示器中的传播
2.6.1 电动力学基础
2.6.2 琼斯（Jones）矩阵法
第3章 LCD模式及其特性
3.1 扭曲向列相（TN）模式
3.1.1 TN模式的结构以及显示原理
3.1.2 阈值特性与液晶指向矢分布
3.1.3 光透过率特性
3.1.4 视角特性
3.1.5 响应时间特性
3.2 共面开关（In－PlainSwitching，IPS）模式
3.2.1 IPS模式结构以及显示原理
3.2.2 阈值特性与液晶指向矢分布
3.2.3 光透过率特性
3.2.4 视角特性
3.2.5 响应时间特性
3.3 边缘场开关（Fringe－FieldSwitching，FFS）模式
3.3.1 FFS模式结构以及工作原理
3.3.2 FFS模式的电场分布
3.3.3 光透过率特性
3.4 垂直取向（VerticalAlignment，VA）模式
3.4.1 VA模式结构以及显示原理
3.4.2 阈值特性
3.4.3 光透过率特性
3.4.4 视角特性
3.4.5 响应时间特性
第4章 TFT结构以及工作原理
4.1 半导体器件基础
4.1.1 金属－半导体（MS）接触
4.1.2 MOS电容的结构和原理
4.1.3 MOSFET
4.2 薄膜晶体管
4.2.1 TFT与MOSFET的比较
4.2.2 薄膜晶体管的工作原理
4.2.3 薄膜晶体管的特性参数
4.3 非晶硅TFT
4.3.1 非晶硅的物理特性
4.3.2 非晶硅TFT结构
4.3.3 a－Si︰HTFT的工作特性
4.4 多晶硅TFT
4.4.1 多晶硅的物理特性
4.4.2 低温多晶硅TFT结构
4.4.3 低温多晶硅TFT的工作特性
第5章 TFT－LCD面板结构及显示原理
5.1 TFT－LCD面板结构
5.1.1 TFT－array基板结构
5.1.2 CF基板结构
5.2 TFT－LCD的工作原理
5.2.1 单位像素的工作原理
5.2.2 TFT－LCD面板的工作原理
5.3 灰阶与彩色显示原理
5.3.1 灰阶（GrayScale）显示原理
(nicon:05.3.2 彩色显示原理
5.3.3 彩色显示方法及基本特性
5.4 影响TFT－LCD显示特性的因素
5.4.1 TFT结构的寄生电容
5.4.2 扫描线的RC延迟
5.4.3 液晶盒的漏电流
第6章 TFT－LCD显示特性改善技术
6.1 开口率
6.1.1 TFT－LCD的开口率
6.1.2 高开口率TFT－LCD
6.2 视角（ViewingAngl）
6.2.1 多畴配向结构
6.2.2 S－IPS模式与UFFS模式
6.2.3 MVA模式与PVA模式
6.3 响应时间
6.3.1 灰阶间响应时间（GrayToGray，简称GTG）
6.3.2 过驱动（OverDrive）技术
6.3.3 预倾角电压技术［27］
6.4 移动图像响应特性
6.4.1 拖影现象
6.4.2 液晶的响应时间引起的拖影现象
6.4.3 人的视觉系统引起的拖影现象
6.4.4 移动图像响应时间
6.4.5 减轻拖影现象的技术
6.5 精确显示色彩（AccurateColorCapture，ACC）技术
6.6 色序法
6.7 光学补偿弯曲（OpticallyCompensatedBend，OCB）模式171
6.7.1 OCB模式的结构
6.7.2 视角特性
6.7.3 响应时间特性
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