第1章 金刚石薄膜的结构、特性及研究现状
1.1 金刚石薄膜的结构
1.2 金刚石薄膜的优异特性
1.3 金刚石薄膜的研究现状
1.4 金刚石薄膜发展前景
第2章 金刚石薄膜的合成方法
2.1 微波等离子体法
2.2 等离子体喷射法
2.3 热丝法
2.4 其他CVD方法
第3章 异质外延和高取向金刚石沉积
3.1 在各种衬底上的异质外延和高取向金刚石膜
3.2 在SiC和Si上的成核和生长
3.3 选择生长和表面形貌
3.4 异质外延金刚石膜的电学性质
第4章 金刚石薄膜的热学、光学和力学性质及应用
4.1 金刚石膜的热学性质及应用
4.2 金刚石膜的光学性质及应用
4.3 金刚石膜的力学性质及涂层刀具
第5章 CVD金刚石电子器件
5.1 有源金刚石膜的生长
5.2 金刚石薄膜的掺杂
5.3 金刚石欧姆接触
5.4 金刚石p-n结二极管
5.5 肖特基二极管
5.6 晶体管
5.7 金刚石薄膜紫外光探测器
第6章 CVD金刚石膜冷阴极场电子发射
6.1 电子亲和势和负电子亲和势
6.2 场电子发射和冷阳极制备
6.3 场发射机理
第7章 金刚石薄膜X射线窗口和光刻掩模版
7.1 用于X射线探测器的CVD金刚石窗口
7.2 用于X射线管的CVD金刚石窗口
7.3 用于X射线光刻掩模版的CVD金刚石
7.4 总结与展望
第8章 金刚石膜温度和压力传感器
8.1 金刚石传感器工艺
8.2 金刚石温度传感器
8.3 压阻式金刚石传感器
第9章 金刚石声表面波(SAW)滤波器
9.1 SAW
9.2 金刚石膜和SAW滤波器制作技术
9.3 不同SAW结构的理论结果
9.4 金刚石SAW特性及其应用
第10章 21世纪的CVD金刚石
10.1 CVD金刚石工艺
10.2 光学元件
10.3 热沉
10.4 电子器件
10.5 新型金刚石膜生长技术
10.6 CVD金刚石刀具
10.7 碳纳米管
参考文献