电子枪与离子束技术

　　1 电子光学
　　1.1  电子光学特征
　　1.2  轴对称电场中的电子运动
　　1.3  电透镜
　　1.4  磁透镜
　　1.5  实用磁透镜
　　1.6  静电透镜与磁透镜的比较
　　2 电子束技术基础
　　2.1  电子束的产生及性质
　　2.2  电子枪概述
　　2.3  强流电子枪设计基础
　　2.4  电子束蒸发沉积
　　3 离子束物理基础
　　3.1  等离子体基本性质
　　3.2  等离子体的分类
　　3.3  等离子体的获得
　　3.4  低温等离子体中粒子运动和效电基本过程
　　3.5  离子束与材料表面的相互作用
　　4 强流轴向电子枪
　　4.1  概述
　　4.2  轴向电子枪基本结构和工作原理
　　4.3  轴向电子束发生系统设计计算
　　4.4  电子光路系统设计计算
　　4.5  枪室真空系统设计
　　4.6  电子枪的调试
　　4.7  强流轴向枪电源设计
　　4.8  电子枪X射线的形成与屏蔽防护
　　5 偏转电子枪
　　5.1  电子束流磁偏转理论基础
　　5.2  偏转电子枪工作原理与结构
　　5.3  偏转枪（e型枪）参数设计
　　5.4  偏转电子枪束流设计计算
　　5.5  压差孔的设计
　　5.6  电子枪头的安装与调试
　　5.7  偏转电子枪电源
　　6 空心阴极放电（HCD）电子枪
　　6.1  空心阴极放电效应
　　6.2  空心阴极电子枪工作原理
　　6.3  空心阴极电子枪设计参数
　　6.4  HCD枪中等离子体的离化率与电流形成
　　6.5  偏转电磁场的设计计算
　　6.6  空心阴极与辅助阳极的设计
　　6.7  离子镀中等离子源的束流偏转
　　7 离子束技术
　　7.1  离子源
　　7.2  离子注入技术
　　7.3  离子束沉积技术
　　8 S枪离子溅射源的设计基础
　　8.1  S枪的基本原理与结构
　　8.2  S枪溅射源结构设计
　　8.3  S枪磁控溅射的工作特性
　　8.4  基本参数的设计计算
　　参考文献

　　本书主要介绍与电子枪、离子源设计有关的基础理论，离子源及离子束应用技术，特别介绍了常用的强流轴向电子枪、偏转电子枪、HCD电子枪与S枪的设计与计算。
　　本书集设计理论和具体设计方法于一体，理论与工程实践有机结合，适合于真空技术、真空冶金、材料工程、热处理、焊接等行业从事设计研究、设备应用与维护的技术人员使用，也可供大专院校相关专业师生参考。