薄膜材料科学（第2版）

　　ForewordtoFirstEdition
　　Preface
　　Acknowledgments
　　AHistoricalPerspective
　　Chapter1  AReviewofMaterialsScience
　　1.1 Introduction
　　1.2 Structure
　　1.3 DefectsinSolids
　　1.4 BondsandBandsinMaterials
　　1.5 ThermodynamicsofMaterials
　　1.6 Kinetics
　　1.7 Nucleation
　　1.8 AnIntroductiontoMechanicalBehavior
　　1.9 Conclusion
　　Exercises
　　References
　　Chapter2  VacuumScienceandTechnology
　　2.1 Introduction
　　2.2 KineticTheoryofGases
　　2.3 GasTransportandPumping
　　2.4 VacuumPumps
　　2.5 VacuumSystems
　　2.6 Conclusion
　　Exercises
　　References
　　Chapter3  Thin-FilmEvaporationProcesses
　　3.1 Introduction
　　3.2 ThePhysicsandChemistryofEvaporation
　　3.3 FilmThicknessUniformityandPurity
　　3.4 EvaporationHardware
　　3.5 EvaporationProcessesandApplications
　　3.6 Conclusion
　　Exercises
　　References
　　Chapter4  Discharges,Plasmas,andIon-SurfaceInteractions
　　4.1 Introduction
　　4.2 Plasmas,Discharges,andArcs
　　4.3 FundamentalsofPlasmaPhysics
　　4.4 ReactionsinPlasmas
　　4.5 PhysicsofSputtering
　　4.6 IonBombardmentModificationofGrowingFilms
　　4.7 Conclusion
　　Exercises
　　References
　　Chapter5  PlasmaandIonBeamProcessingofThinFilms
　　5.1 Introduction
　　5.2 DC,AC,andReactiveSputteringProcesses
　　5.3 MagnetronSputtering
　　5.4 PlasmaEtching
　　5.5 HybridandModifiedPVDProcesses
　　5.6 Conclusion
　　Exercises
　　References
　　Chapter6  ChemicalVaporDeposition
　　6.1 Introduction
　　6.2 ReactionTypes
　　6.3 ThermodynamicsofCVD
　　6.4 GasTransport
　　6.5 FilmGrowthKinetics
　　6.6 ThermalCVDProcesses
　　6.7 Plasma-EnhancedCVDProcesses
　　6.8 SomeCVDMaterialsIssues
　　6.9 Safety
　　6.10 Conclusion
　　Exercises
　　References
　　Chapter7  SubstrateSurfacesandThin-FilmNucleation
　　7.1 Introduction
　　7.2 AnAtomicViewofSubstrateSurfaces
　　7.3 ThermodynamicAspectsofNucleation
　　7.4 KineticProcessesinNucleationandGrowth
　　7.5 ExperimentalStudiesofNucleationandGrowth
　　7.6 Conclusion
　　Exercises
　　References
　　Chapter8  Epitaxy
　　8.1 Introduction
　　8.2 ManifestationsofEpitaxy
　　8.3 LatticeMisfitandDefectsinEpitaxialFilms
　　8.4 EpitaxyofCompoundSemiconductors
　　8.5 High-TemperatureMethodsforDepositingEpitaxialSemiconductorFilms
　　8.6 Low-TemperatureMethodsforDepositingEpitaxialSemiconductorFilms
　　8.7 MechanismsandCharacterizationofEpitaxialFilmGrowth
　　8.8 Conclusion
　　Exercises
　　References
　　Chapter9  FilmStructure
　　9.1 Introduction
　　……
　　Chapter10  CharacterizationofThinFilmsandSurfaces
　　Chapter11  Interdiffusion,Reactions,andTransformationsinThinFilms
　　Chapter12  MechanicalPropertiesofThinFilms
　　Index

　　Milton Ohring, 生于1936年，美国史第文斯理工学院材料工程学系教授，在此职位上工作37年期间，一直活跃在讲台。同时，作者还是材料科学、薄膜技术、微电子学等领域的资深研究专家。其他相关著作还有Engineering Materials science,Academic Press(1995),Reliability&failure of electronic Materials &Devices,Academic Press(1998)等。

　　本书详细介绍了涉及薄膜材料科学的各个方面，内容包括真空技术、薄膜沉积技术与原子过程、薄膜的结构与性能表征等。本书内容广泛，资料全面，各章后面附有习题，是一本真正意义上的薄膜科学与技术的教科书。该书自1992 年第1版问市以来，深受材料科学界的广泛欢迎。非常适用于从事薄膜材料研究的专业研究人员、材料类院系高年级本科生和研究生作教材或参考书。本书由中国科学院物理研究所研究员曹则贤先生特别推荐。
　　本书为英文版！