多弧离子镀技术与应用

　　1 多弧离子镀的沉积原理与技术特点
　　1.1 真空镀膜技术概论
　　1.2 多弧离子镀的基本结构与沉积原理
　　1.3 多弧离子镀的技术特点
　　1.4 多弧离子镀的应用
　　2 工艺参数及液滴的控制
　　2.1 大颗粒的产生
　　2.2 大颗粒的去除
　　2.3 大颗粒的控制效果
　　2.4 大颗粒控制的工艺实现及优化
　　参考文献
　　3 多弧离子镀设备的改进
　　3.1 国内外早期设备
　　3.2 现阶段设备进展
　　3.3 设备技术发展方向
　　参考文献
　　4 多弧离子镀超硬反应膜
　　4.1 多弧离子镀TiN超硬反应膜
　　4.2 多弧离子镀CrN超硬反应膜
　　4.3 多弧离子镀ZrN超硬反应膜
　　4.4 多弧离子镀（Ti，A1）N超硬膜
　　4.5 多弧离子镀（Ti，Cr）N超硬膜
　　4.6 多弧离子镀（Ti，Zr）N超硬膜
　　4.7 多弧离子镀多元超硬反应膜
　　参考文献
　　5 多弧离子镀高温防护涂层
　　5.1 高温防护涂层概述
　　5.2 MCrAIX高温合金防护涂层
　　5.3 Ti-A1-Cr系高温钛合金防护涂层
　　5.4 热障涂层
　　参考文献
　　6 多弧离子镀装饰涂层
　　7 多弧离子镀在功能薄膜中的应用
　　8 多弧离子镀合金涂层的成分问题
　　9 超硬反应膜形成元素分析
　　10 多弧离子镀、渗复合工艺
　　11 脉冲偏压多弧离子镀

　　本书是近20年来国内外大量相关文献的综合、分析、整理并结合作者的相关研究工作总结而成的。全书共分11章。第1章重点介绍了多弧离了镀的沉积原理与技术特点；第2章、第3章介绍了多弧离子镀的沉积工艺、大颗粒的控制及设备发展；第4～7章分别介绍了多弧离子镀在超硬反应膜、离温防护涂层、表面装饰膜以及功能膜制备方面的应用，给出了丰富的应用实例；第8章介绍了多弧离子镀技术制备成分设计及控制；第9章分析了超硬反应膜的形成元素；第10章、第11章分别介绍了多弧离子镀的镀－渗复合工艺和脉冲偏压多弧离子镀新技术。
　　本书适合从事材料表面改性，特别是从事真镀空膜技术研究开发及实际生产应用的科技工作者阅读，也可供材料表面工程专业的研究生、本科生参考。