第1章 原子吸收及发射光谱分析
1．1 原子吸收光谱法（AAS）
1．1．1 火焰原子吸收光谱法（FAAS）
1．1．2 石墨炉原子吸收光谱法（GFAAS）
1．2 电感耦合等离子体发射光谱法（1CP—OES）
1．2．1 ICP—OES仪器基本结构
1．2．2 ICP—OES的特点
1．2．3 ICP炬焰的形成
1．2．4 ICP的装置和炬焰结构
1．2．5 ICP激发机理
1．2．6 ICP光源的分析特性
1．2．7 高频电源
1．2．8 进样装置
1．2．9 ICP炬管
1．2．10 ICP—OES光学系统和检测系统
1．2．11 ICP—OES的干扰和干扰消除
1．2．12 样品分析技术
1．3 FAAS、GFAAS和ICP—OES性能比较
参考文献
第2章 x射线荧光光谱分析
2．1 引言
2．2 x射线的物理学基础
2．2．1 X射线荧光的产生
2．2．2 x射线与物质的相互作用
2．2．3 x射线荧光的激发因子
2．3 X射线荧光谱仪
2．3．1 波长色散x射线荧光光谱仪
2．3．2 能量色散x射线荧光光谱仪
2．3．3 全反射x射线荧光光谱仪（TXRF）
2．4 定性和半定量分析
2．4．1 概述
2．4．2 定性分析
2．4．3 半定量分析
2．4．4 实际样品半定量分析结果举例
2．5 定量分析
2．5．1 XRF的定量分析基础
2．5．2 元素间的吸收一增强效应
2．5．3 克服或校正元素间吸收一增强效应的方法概述
2．5．4 经验影响系数法
2．5．5 基本参数法
2．5．6 理论影响系数法
2．5．7 小结
2．6 样品制备
2．6．1 概述
2．6 ，2固体样品的制备
2．6．3 粉末样品及粉末压片的制备
2．6．4 熔融样品的制备
2．6．5 薄样的制备
2．7 应用实例
2．7．1 镍基、铁基和钴基合金的定量分析
2．7．2 地质样品中多元素分析
2．7．3 PZNT晶体主量元素含量分析
参考文献
第3章 辉光放电质谱分析
3．1 引言
3．2 辉光放电基本原理
3．2．1 辉光放电
3．2．2 辉光放电的溅射和电离
3．2．3 辉光放电质谱
3．3 仪器．
3．3．1 离子源
3．3．2 质量分析器
3．3．3 检测系统
3．4 辉光放电质谱分析及其特点
3．4．1 样品制备与预处理
3．4．2 分析参数的选择与分析过程
3．4．3 半定量和定量分析
3．4．4 分析特点和性能比较
3．5 应用
3．5．1 金属及半导体材料分析
3．5．2 非导体材料分析
3．5．3 深度分析
参考文献
第4章 热分析
4．1 热分析的定义
4．2 热分析的物理基础
4．2．1 基本概念和基本定律
4．2．2 热力学基本定律
4．3 物质受热过程中发生的变化
4．3．1 热物理性质变化
4．3．2 热量传递的一般规律
4．4 热分析方法
4．4．1 热重法
4．4．2 差热分析法
4．4．3 差示扫描量热法
参考文献
第5章 X射线衍射分析
5．1 X射线在晶体中的衍射
5．1．1 晶体的x射线衍射和布拉格定律
5．1．2 衍射线的强度
5．1．3 倒易点阵
5．1．4 倒易点阵和晶体的衍射方向
5．2 X射线物相分析
5．2．1 物相的定性分析
5．2．2 物相的定量分析
5．3 衍射图谱的指标化和晶胞参数的精确测定
5．3．1 衍射图谱的指标化和晶胞参数精确测定的意义
5．3．2 衍射数据指标化和晶胞参数精确测定的方法
5．3．3 用标准样对比消除误差的方法
5．3．4 未知相衍射线的指标化
5．3．5 x射线衍射线条的指标化和晶胞参数的精密测定（已知近似晶胞参数）
5．3．6 晶胞中分子数的求算
5．3．7 衍射数据指标化的可靠性评价
5．4 Rietveld方法及其在结构分析、定量相分析中的应用
5．4．1 粉末衍射法结构解析的困难和全谱拟合结构精修思想（Rietveld方法）的提出
5．4．2 全谱拟合的理论要点
5．4．3 利用Rietveld方法进行结构分析的实例
5．4．4 利用Rietveld方法进行定量相分析的实例
参考文献
第6章 透射电子显微分析
第7章 扫描俄歇电子能谱分析
第8章 电子探针、扫描电镜显微分析
参考文献
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