薄膜材料制备原理技术及应用

　　1 薄膜制备的真空技术基础
　　1.1 气体分子运动论的基本概念
　　1.2 气体的流动状态和真空抽速
　　1.3 真空泵简介
　　1.4 真空的测量
　　参考文献
　　2 薄膜的物理气相沉积（Ⅰ）——蒸发法
　　2.1 物质的热蒸发
　　2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度
　　2.3 真空蒸发装置
　　参考文献
　　3 薄膜的物理气相沉积（Ⅱ）——溅射法及其他PVD方法
　　3.1 气体放电现象与等离子体
　　3.2 物质的溅射现象
　　3.3 溅射沉积装置
　　3.4 其他物理气相沉积方法
　　参考文献
　　4 薄膜的化学气相沉积
　　4.1 化学气相沉积反应的类型
　　4.2 化学气相沉积过程的热力学
　　4.3 化学气相沉积过程的动力学
　　4.4 CVD薄膜沉积过程的数值模拟
　　4.5 化学气相沉积装置
　　4.6 等离子体辅助化学气相沉积技术
　　参考文献
　　5 薄膜的生长过程和薄膜结构
　　5.1 薄膜生长过程概述
　　5.2 新相的自发形核理论
　　5.3 薄膜的非自发形核理论
　　5.4 连续薄膜的形成
　　5.5 薄膜生长过程与薄膜结构
　　5.6 非晶薄膜
　　5.7 薄膜结构
　　5.8 薄膜的外延生长
　　5.9 薄膜中的应力和薄膜的附着力
　　参考文献
　　6 薄膜材料的表征方法
　　7 薄膜材料及其应用

　　本书以薄膜材料为中心，系统地介绍了薄膜技术中常用的真空技术基础知识，各种物理和化学气相沉积技术和方法，薄膜材料的形核及生长理论，薄膜材料微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微观结构和成分的表征方法等。在此基础上，本书还有选择地讨论了薄膜材料在力学、光电子学、磁学等领域的典型应用实例，其中涉及各种机械防护涂层、金刚石膜、光电子器件、集成光学器件、磁记录及光记录介质材料等技术。
　　本书可作为高等学校材料、物理及相关专业本科生、研究生及老师的教学参考书，也可供从事薄膜材料制备、研究的工程技术人员参考