第1章 真空技术基础
1.1 真空的基本知识
1.1.1 真空定义
1.1.2 真空度量单位
1.1.3 真空区域划分
1.1.4 气体与蒸气
1.2 真空的表征
1.2.1 气体分子运动论
1.2.2 分子运动的平均自由程
1.2.3 气流与流导
1.3 气体分子与表面的相互作用
1.3.1 碰撞于表面的分子数
1.3.2 分子从表面的反射
1.3.3 蒸发速率
1.3.4 真空在薄膜制备中的作用
习题
第2章 真空泵与真空规
2.1 真空泵
2.1.1 油封机械泵
2.1.2 扩散泵
2.1.3 吸附泵
2.1.4 溅射离子泵
2.1.5 升华泵
2.1.6 低温冷凝泵
2.1.7 涡轮分子泵和复合涡轮泵
2.1.8 干式机械泵
2.2 真空测量仪器——总压强计
2.2.1 麦克劳真空规
2.2.2 热传导真空规
2.2.3 电离真空计——电离规
2.2.4 盖斯勒管
2.2.5 隔膜真空规
2.2.6 真空规的安装方法
2.3 真空测量仪器——分压强计
2.3.1 磁偏转型质谱计
2.3.2 四极滤质器(四极质谱计)
习题
第3章 真空装置的实际问题
3.1 排气的基础知识
3.2 材料的放气
3.3 排气时间的估算
3.4 实用的排气系统
3.4.1 离子泵系统
3.4.2 扩散泵系统
3.4.3 低温冷凝泵-分子泵系统
3.4.4 残留气体
3.5 检漏
3.5.1 检漏方法
3.5.2 检漏的实际操作
3.6 大气温度与湿度对装置的影响
3.7 烘烤用的内部加热器
3.8 化学活性气体的排气
3.8.1 主要装置及存在的问题
3.8.2 排气系统及其部件
习题
第4章 气体放电和低温等离子体
4.1 带电粒子在电磁场中的运动
4.1.1 带电粒子在电场中的运动
4.1.2 带电粒子在磁场中的运动
4.1.3 带电粒子在电磁场中的运动
4.1.4 磁控管和电子回旋共振
4.2 气体原子的电离和激发
4.2.1 碰撞——能量传递过程
4.2.2 电离——正离子的形成
4.2.3 激发——亚稳原子的形成
4.2.4 圆复——退激发光
4.2.5 解离一一分解为单个原子或离子
4.2.6 附着——负离子的产生
4.2.7 复合——中性原子或原子团的形成
……
第5章 薄膜生长与薄膜结构
第6章 真空蒸镀
第7章 离子镀和离子束沉积
第8章 溅射镀膜
第9章 化学气相沉积(CVD)
第10章 干法刻蚀
第11章 平坦化技术
第12章 表面改性及超硬膜
第13章 能量及信号变换用薄膜与器件
第14章 半导体器件、记录和存储用薄膜技术与薄膜材料
第15章 平板显示器中的薄膜技术与薄膜材料
第16章 太阳电池中的薄膜技术与薄膜材料
第17章 白光LED固体照明与薄膜技术
参考文献
作者书系